NXQ4000紫外掩膜對準曝光系統的詳細資料

美國NXQ以的性能，經濟的價格，深受用戶喜愛，截至2016年底，超過5000臺NXQ曝光系統遍布*科研實驗室，研發中心。

NXQ4000系列半自動掩膜對準曝光系統，融合了獨立的模塊化設計，精準控制對準和曝光等特點，自動程序控制使得該系統易于操作存儲和使用，適合實驗室多用戶使用。

該系統特點：

• 鍥型誤差補償系統----*的WEC設計

• 紫外燈源的多樣性選擇

• 曝光光路的精準控制

• 視像分辨技術------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

• 高效對準控制-----可選配IR或OBS雙面對準

使用領域（包括但不限于下述領域的光刻工藝）