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刻蝕顯影清洗系統的詳細資料

  刻蝕顯影清洗系統是一套脫機系統,在一個封閉的清洗室內清洗網紋輥,并由計算機控制。該系統包含一個回收裝置,去除廢料,清洗介質的表面,并允許塑料介質可以重復多次使用。該系統具有分別處理窄滾筒、中等幅寬滾筒和寬至95英寸的滾筒的機構,可以滿足各種不同的印刷需求。
 
  刻蝕顯影清洗系統特點:
 
  1. CIP在位清洗系統的經濟運行成本低,結構緊湊,占地面積小.安裝.維護方便,能有效地對缸罐容器及管道等生產設備進行就地清洗,其整個清洗過程均在密閉的生產設備,缸罐容器和管道中運行,從而大大減少了二次污染機會。
 
  2. 可根據生產需要分為一路至四路。尤其是二路及二路以上,既能分區同時清洗同一個或二個以上區域,也能在生產過程中邊生產邊清洗。這樣在生產時就大大縮短了CIP清洗的 全自動CIP清洗系統時間。
 
  3. 體外循環系統,可有效減少能耗。
 
  4. 回水系統,可有效減少CIP用水。
 
  5. 尤其是,能對清洗液進行自動檢測.加液.排放.顯示與調整,對其運行可靠,自動化程度高,操作簡單,CIP清洗效果好,因而更符合現代大規模流體藥品.食品加工工藝的衛生要求及生產環境要求。
 
  被廣泛的用于飲料、乳品、果汁、果漿、果醬、酒類等機械化程度較高的食品飲料生產企業中。就地清洗簡稱CIP,又稱清洗定位或定位清洗(cleaning in place)。就地清洗是指不用拆開或移動裝置,即采用高溫、高濃度的洗凈液,對設備裝置加以強力作用,把與食品的接觸面洗凈,對衛生級別要求較嚴格的生產設備的清洗、凈化。

德國韋氏納米系統(香港)有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。

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