E-mail: chenliu_0902@first-nano.de
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Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵
Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業享有盛名。該公司的創始人N. J. Harrick博士，開創了內反射光譜和成為該技術的主要開發者。 Harrick Plasma 研發了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件?，F在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應用。
PDC-VPHarrick Plasma 等離子清洗機真空泵的詳細資料
Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵配置：
>1.4 1.4 m3/hr (0.83 ft3/min) 極限壓力在200 mTorr (0.27 mbar)以下
真空泵型號：
經濟型 PDC-VPE (115V); PDC-VPE-2 (230V)
穩定型 PDC-VP (115V ) ; PDC-VP-2 (230V)
工藝氣體為氧氣，請選擇真空泵型號
經濟型 PDC-OPE (115V); PDC-OPE-2 (230V)
穩定型 PDC-OPD (115V); PDC-OPD-2(230V)
對于其他腐蝕性或者反應性氣體，請咨詢 German First-Nano System （HK）Limited
參考客戶：
蘭州大學 鄭州大學 上海交通大學 上海復旦大學 合肥工業大學 成都電子科技大學 北京大學 清華大學醫工所 蘭州化物所 中科院納米所 等等
我公司專業銷售Harrick Plasma產品，并提供Harrick Plasma產品的售前售后服務，如您對Harrick Plasma產品感興趣，歡迎前來咨詢！German First-Nano System （HK）Limited
德國韋氏納米系統（香港）有限公司主要供應等離子清洗機,基本型等離子清洗機,擴展型等離子清洗機,高功率等離子清洗機等產品。
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